产品与应用
碳化硅载盘
- RTP/RTA载盘:用于半导体制程中快速升降温热处理过程工艺,如退火、掺杂和氧化工艺。HuaCera®碳化硅RTP/RTA载盘纯度高,耐高温、热稳定性好,均温性佳,能够确保晶圆在退火过程中受热均匀,减少炸盘现象的发生。
- PVD载盘:用于LED生产的氮化铝镀膜工艺中,HuaCera®碳化硅PVD载盘纯度高、高硬度耐磨、高比刚度,导热佳、耐热冲击性好,均温性佳, 寿命长。
- CMP载盘是半导体制造工艺中的关键部件,尤其适用于SiC晶圆的化学机械抛光 (CMP),HuaCera®碳化硅CMP载盘充分利用了碳化硅陶瓷的优异导热性、高硬度、低热膨胀性和耐化学性等特性。HuaCera®碳化硅CMP载盘晶粒细小均匀,高致密度,纯度高、面型精度高,寿命长。
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